2008年9月，我公司2個(gè)發(fā)明專利喜獲授權(quán)通知書(shū)
發(fā)布于2008-12-16 有3936人閱讀
2008年9月28日，發(fā)明專利：整流二極管、專用于制造整流二極管的芯片以及制造方法(申請(qǐng)?zhí)?004100653926)、晶閘管、專用于制造晶閘管的芯片以及制造方法(申請(qǐng)?zhí)?004100653930)獲授權(quán)通知書(shū)。
目前，我公司有專利5項(xiàng)(發(fā)明專利2項(xiàng)、實(shí)用新型專利2項(xiàng))， 實(shí)用新型專利：整流二極管、專用于制造整流二極管芯片(專利號(hào)ZL200420109301.X)、晶閘管、專用于制造晶閘管的芯片(專利號(hào)ZL200420109302.4)、具有隔離墻和超薄P+陽(yáng)極的快軟恢復(fù)二極管芯片(專利號(hào)ZL200720131747.6)。
目前，我公司有專利5項(xiàng)(發(fā)明專利2項(xiàng)、實(shí)用新型專利2項(xiàng))， 實(shí)用新型專利：整流二極管、專用于制造整流二極管芯片(專利號(hào)ZL200420109301.X)、晶閘管、專用于制造晶閘管的芯片(專利號(hào)ZL200420109302.4)、具有隔離墻和超薄P+陽(yáng)極的快軟恢復(fù)二極管芯片(專利號(hào)ZL200720131747.6)。
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